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丘钛微申请“一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片”专利降低 AR 膜层和红外截止膜层被划伤的概率来提升的良率
2024.08.12
作者: 米乐网页版登录入口
金融界 2024 年 7 月 12 日消息,天眼查知识产权信息数据显示,昆山丘钛微电子科技股份有限公司申请一项名为“一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片“,公开号 CN8.0,申请日期为 2024 年 4 月。
专利摘要显示,本发明提供了一种用于提升滤光片良率的工艺方法及滤光片,方法有:提供玻璃基底;在所述玻璃基底的一侧面镀设有 AR 增透膜;在所述玻璃基底的另一侧面上镀设有红外截止膜;对镀膜后的玻璃基底进行丝印处理;利用预设的喷涂工艺对丝印处理后的玻璃基底的两侧面喷涂保护层;所述保护层用于保护所述AR 增透膜和所述红外截止膜;如此,为降低 AR 膜层和红外截止膜层被划伤的概率,在玻璃基底的两侧面进行镀膜后,又在玻璃基底的两侧面喷涂上保护层;这样在后续工艺步骤中对玻璃基底做处理时,由于有保护层可保护 AR 膜层和红外截止膜层,因此能降低膜层被划伤的概率,来提升滤光片的良率。
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