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  随着科技的快速的提升，溅射靶材作为薄膜材料制备的关键材料，其需求量正持续增长。中国企业超卓航科凭借领先的冷喷涂技术，成功制造出高纯度、高密度、高性能的溅射靶材，为我国高端溅射靶材产业的发展注入了强大动力。

  溅射靶材是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的核心材料。其纯度、致密度和成分均匀性等性能对下游客户的镀膜质量具有直接影响。超卓航科所采用的冷喷涂技术，作为一种颇具前景的固态粉末沉积方法，具备沉积效率高、材料致密几乎无缺陷、性能优越等优势。这种技术在制造高密度、高纯度的溅射靶材方面具有巨大潜力，能够很好的满足日益严格的性能要求。

  超卓航科成功应用冷喷涂技术制造出Zn、Al、Cu、Ag、Ti、Nb、Ta等多种金属与合金靶材。这些靶材不仅直接成型生产效率高，与背衬的结合强度也超过80 MPa，晶粒更细小，氧含量低，均质稳定，大幅度的提高了靶材寿命。此外，这些靶材的致密度高，基本上没有气孔，溅射过程中不可能会出现异常放电现象，拥有非常良好的表面质量。

  随着显示行业的回暖，平面显示器市场持续扩大，其中以液晶显示（LCD）为主导。溅射靶材作为薄膜制备的主流工艺，其需求量将进一步增长。超卓航科的溅射靶材产品大范围的应用于平面显示器、集成电路半导体、太阳能电池、信息存储、光学镀膜、电子器件等领域。其中，集成电路用靶材在全球市场中占了重要地位，薄膜太阳能电池的背电极环节以及异质结电池的导体层也大量使用溅射靶材。

  值得一提的是，异质结电池作为下一代主流电池片技术，具有能量转化高和成本降低空间大的优势。随着异质结电池产能的快速扩张，太阳能电池用靶材的需求将有望进一步增长。尤其是ITO靶材（氧化铟锡膜），作为异质结电池的透明导电膜，其需求量将大幅增加。

  此外，随信息存储产业的持续不断的发展，记录介质用靶材的需求量也在一直增长。硬盘、磁头、光盘等数据存储产品的制造都需要用高品质的溅射靶材。在信息存储产业中，常用的靶材包括钴、铬、碳、镍、铁、贵金属、稀有金属和介质材料等。

  超卓航科凭借先进的冷喷涂技术，成功打破了国外技术垄断，填补了国内高端溅射靶材市场的空白。这一突破不仅提升了我国在高端溅射靶材领域的国际竞争力，也为先进制造业的高水平质量的发展注入了强大动力。

  超卓航科表示将继续深耕高端溅射靶材产业，加大研发投入，推动技术创新，不断的提高产品性能和品质。同时，该公司还将积极拓展应用领域，深化与各行业的合作，一同推动我国高端溅射靶材产业的繁荣发展。